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【科普】什么是EUV光刻?
白柴 | 2019-06-17 15:58:54    阅读:5058   发布文章

在说EUV之前,让我们先了解一下什么是光刻技术。

光刻技术从基本上来说是一个投影系统,将光线投射并穿透印有电路蓝图的光罩,利用光学原理将图样打在已涂布感光药剂的硅晶片上,进行曝光。当未曝光的部分被蚀刻移除后,图样就会显露出来。

在光刻行业有一个规律,就是芯片厂在芯片上塞进的结构数量越多,芯片就越强大。进而循着这条规律,所有芯片厂的目标就是尽力缩小结构尺寸。

这时候就要说到我们今天的话题——EUV了。

EUV,中文是极紫外光刻。它是光刻技术的一种。

EUV是现在最领先的光刻技术。它以波长为10~14纳米的极紫外光作为光源,可使曝光波长一下子降到13.5纳米。这一技术能够让芯片工艺扩展到32nm以下。

500万彩票网这里提到的极紫外光。据悉,荷兰ASML公司需要以每秒5万次的频率,对液态锡的液滴发射高能激光束才能得到。

EUV光刻系统有两个特点:

●可精确控制光束,其精度就好比从地球上发出的手电筒光线。可以照到放置在月球上的一枚50分欧元硬币一样。

●使用的镜片需极度平摊。假设你要制作一个像德国般大小的镜片,其最高凸起物必须低于1毫米高。

一套EUV光刻系统包含一个重达7600公斤的大型真空室,而一套EUV光刻系统有18万公斤重。


*本文参考《EUV是什么?》,芯通社综合整理

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